Fotodruck

  • Abstand zwischen Leiterbahnen: min. 50 µm
  • lichtempfindlicher Fotoresist, mit wässriger Sodalösung entwickelbar Ordyl AM130, AM140, AM150, AM160
Ausrüstung:
  • Orbotech LDI Paragon 8800HI Maschine zur Beleuchtung
  • WISE MEC horizontale Linie für die Vorbehandlung der Kupferoberfläche
  • WISE DES horizontale Linie für die Entwicklung des Fotoresists, Ätzen der Kupferoberfläche und Strippen des Fotoresists
  • Hakuto MACH 610V, Hakuto MACH 760UP Laminator und DuPont Riston LS2400

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